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Field Emission Scanning Electron Microscope
(전계방사형 주사전자현미경)
  • 제작사 및 모델 : TESCAN(Czech), MIRA 3 LMH In-Beam

  • 원리
    진공 하에서 고전압을 필라멘트에 인가하면 열 전자빔이 방출되어지고, 이 열 전자빔이 전도성을 가진 시료표면에 입사되면 전자빔의 대부분은 열 발생으로 잃고, 나머지 전자는 시료의 구성 원자를 여기 또는 전리시키고, 일부는 산란되어 시료에서 밖으로 나오게 된다. 이때 여러 가지 정보를 가진 신호를 방출하게 된다. 이들 신호 중 2차 전자 및 후방산란전자를 포집하여 광증폭기를 거쳐 모니터에 이미지를 나타낸다. EDX가 장착되어 특성X선의 에너지 값을 분류하여 시료의 화학조성에 대한 정성 및 정량분석을 가능하게 한다. EBSD가 장착되어 회절 현상을 이용하여 표면의 결정분포를 파악할 수 있다.

  • 주요성능
    1. Electron Gun : Schottly emitter
    2. Accelerating Voltage : 50V ~30kV
    3. Resolution : SEI ; 1.0nm at 30kV BEI : 2.0nm at 15kV
    4. Magnification : ×2 ~ ×1000K
    5. EDS(Energy Dispersive X-Ray Spectrometer)부착
    6. EBSD(Electron Backscatter Diffraction System)부착

  • 용도
    1. 금속재료분야
         - 금속 및 세라믹의 표면관찰 및 성분분석, 결정분포 촬영
         - 반도체 기판위에 증착시킨 박막 두께 관찰
         - 나노 수준 미세구조의 표면 관찰(CNT 및 SNT와 같은 분말)
    2. 화학분야
         - 고분자의 형태와 크기, 표면형상 관찰(필름, 섬유 등)
    3. 생물 및 의학분야


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